鈣鈦礦發(fā)光二極管自動涂膜機(jī)簡單介紹:

狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)由山東安尼麥特儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī)，本機(jī)主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開發(fā)設(shè)計的專用裝置，同時也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗(yàn)機(jī)，底板采用微孔陶瓷吸附平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進(jìn)料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數(shù)控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。

應(yīng)用場景：針對微米級特別是納米及亞微米級功能性涂層的涂布試驗(yàn)、墨水調(diào)試、工藝研究、小規(guī)模制樣研發(fā)等。

涉及行業(yè)：包括水凝膠、液態(tài)金屬、智能包裝材料、光電材料、光刻膠、功能涂層、微電子及半導(dǎo)體封裝等大面積涂布制備，以及氫燃料電池膜電極、電解水制氫膜電極、鋰電池、各種活性催化劑、異質(zhì)結(jié)太陽能電池、薄膜太陽能電池、鈣鈦礦太陽能電池、有機(jī)太陽能電池、OLED柔性穿戴器件、有機(jī)場效應(yīng)晶體管,導(dǎo)電聚合物,納米線和納米管,二維材料,有機(jī)發(fā)光二極管和鈣鈦礦發(fā)光二極管、鈣鈦礦光伏電池、鋰離子電池的電解質(zhì)和電極、染色敏感性太陽能電池、電子皮膚等器件的制備。

 由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī)，受到刮刀調(diào)節(jié)，底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級膜，狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)，底板采用檢驗(yàn)級大理石平臺，同時采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過進(jìn)料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個因數(shù)控制濕膜厚度，同時軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。在國內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用。

鈣鈦礦發(fā)光二極管自動涂膜機(jī)技術(shù)參數(shù)

1. 產(chǎn)品型號：    AT-XTB-3040A

2.涂布方式：狹縫式涂布頭

3.涂布速度：1-30mm/s  任意設(shè)定

4.控制方式: 觸摸屏

5.涂布濕膜厚度范圍： 2-100um   （根據(jù)涂布速度和涂布液粘度涂布范圍不同

6.干膜厚度范圍：  50nm-1000nm  (根據(jù)固含量不同干膜厚度范圍有偏差）

7.涂布固含量范圍：1-70%

8.粘度范圍：1-300CPS

9.均勻性：4-6%

10.涂布寬度范圍：10-260mm

11.涂布頭與底板距離調(diào)節(jié)精度：0.002mm

12.加熱溫度范圍：室溫-150度

13.加熱板功率：2000w

14.涂布頭產(chǎn)地：國產(chǎn) （可以定制進(jìn)口涂布頭）

15. 氣源壓力：0.6MPa

16. 涂布頭與底板間隙調(diào)節(jié)方式：手動調(diào)節(jié)/自動調(diào)節(jié)/自動調(diào)節(jié)帶反饋（調(diào)節(jié)方式客戶根據(jù)自己需要選配）

17. 試樣加持方式：機(jī)械固定/吸附固定（客戶根據(jù)自己需要選配）

18. 設(shè)備總功率：2500W

19.設(shè)備尺寸：750mmX400mmX450mm

20.涂布平臺尺寸：300X300mm

21.電源電壓：220V  50 Hz

產(chǎn)品特點(diǎn)

1.采用滾珠絲杠傳動，運(yùn)行平穩(wěn)性更好

2.速度數(shù)字化可調(diào)，可以根據(jù)需要選擇合適的速度.

3.高精度國產(chǎn)涂布頭，加料方便，涂布精度高，均勻性好

4.采用檢驗(yàn)級大理石平臺，平整度好，可以達(dá)到微米級別。

5.觸摸屏控制，自動化程度高，涂布距離可設(shè)定，有效保證了涂布試樣的尺寸。